PLD 300

模块描述

配置参数

生长室

腔体

腔体材料

SS316

腔体尺寸

300mm I.D.

烘烤温度

Max.200℃

本底真空

< 5×10^-10mbar

抽气系统

450L/s分子泵+10L/s机械泵

真空测量系统

全量程规+电容薄膜规

离子泵/TSP/NEG

选配

样品架

样品尺寸

2 inch

衬底加热方式

辐射加热/激光加热

衬底加热器最高温度

1200℃

衬底最大旋转速度

30RPM

靶台

靶材尺寸

6×1 inch或3×2 inch

旋转方式

公转+自转

独立的靶台挡板

气动驱动

质量流量计

三路/200sccm

部件

QCM

标配

差分RHEED

15KeV-30KeV

Ion Source

选配

RGA

选配

快速进样室

腔体

腔体材料

SS316

烘烤温度

120℃

本底真空

< 5×10^-8mbar

抽气系统

80L/s分子泵+10L/s机械泵

真空测量系统

全量程规

部件

样品停放台

3工位

传样杆

CF35/600mm

软硬件集成

GUIDE软件

标配

烘烤系统

标配

系统支架

标配

真空照明系统

标配

激光器

进口/国产选配

KSA图像分析系统

选配

Kaufman离子源

选配

红外测温仪

选配

泵车

选配

等离子清洗

选配

CCD相机

选配