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产品概述 Product Overview
Sputtering 100是费勉仪器专为大学和科研院所开发的磁控薄膜沉积设备，用于生长超导薄膜、磁性薄膜、光学及装饰涂料、固态薄膜锂电池、有机电子产品（OLED 和 OPV）、光伏和电子产品的钙钛矿薄膜、剥离工艺的薄膜等。Sputtering 100 型磁控溅射系统使用完全模块化的磁控溅射源，容易拆装更换或维修。Sputtering 100型磁控溅射系统配备了完整的泵站、真空仪表、配电箱、电子机架，以及安全联锁，可以手动或通过计算机控制来操作。系统预留各类型号接口，并提供多种扩展，以满足客户的薄膜沉积要求。
技术规格 Mechanical Specifications
● 适用于纳米级的单层及多层薄膜的生长
● 成膜速率高，基片温度低，膜的粘附性好，可实现大面积镀膜
● 可以与超高真空互联系统进行对接
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Sputtering 100 |
模块描述 |
配置参数 |
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生长室 |
腔体 |
腔体材料 |
SS316 |
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腔体尺寸 |
400mm I.D. |
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烘烤温度 |
Max.200℃ |
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本底真空 |
< 8×10-9mbar |
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抽气系统 |
700L/s分子泵+10L/s机械泵 |
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真空测量系统 |
全量程规+薄膜规+Pirana规 |
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离子泵/TSP/NEG |
选配 |
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样品架 |
样品最大尺寸 |
6 inch |
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衬底加热方式 |
SiC加热 |
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衬底加热器温度 |
1000℃ |
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衬底最大旋转速度 |
30RPM |
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溅射靶组 |
靶枪数量 |
6个 |
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靶枪尺寸 |
2 inch |
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电源配置 |
DC/RF可选 |
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靶头 |
角度及位置可调 |
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进气方式 |
靶面进气 |
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独立的磁控挡板 |
气动驱动 |
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质量流量计 |
四路/50sccm |
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部件 |
QCM |
标配 |
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Ion Source |
选配 |
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RGA |
选配 |
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快速进样室 |
腔体 |
腔体材料 |
SS316 |
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烘烤温度 |
Max.200℃ |
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本底真空 |
< 5×10-8mbar |
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抽气系统 |
80L/s分子泵+10L/s机械泵 |
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真空测量系统 |
全量程规 |
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部件 |
样品停放台 |
3工位 |
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传样杆 |
CF35/600mm |
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软硬件集成 |
控制软件 |
标配 |
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红外测温仪 |
标配 |
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烘烤系统 |
标配 |
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系统支架 |
标配 |
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真空照明系统 |
标配 |
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泵车 |
选配 |
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等离子清洗 |
选配 |
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CCD相机 |
选配 |
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| MBE-1000 配套蒸发源 | ||
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查看详情 |
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视频 Video
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