RFPS-200M射频等离子体源使用13.56MHz射频电源驱动,通过线圈式结构激发产生等离子体,具有更好的稳定性以及更精确的操控性。结构更加紧凑,体积、功率较小,适合科研使用。
| ● 高效稳定的氮化物、氧化物、氢化物生长 | ● 精确的操控性能,简单易用 | ● 内有原子筛选孔,使带电粒子尽可能少地到达衬底 | 
| ● 可以根据需求更换引出端口 | ● 适用于MBE外延、真空解理镀膜、氢原子衬底清洗等系统 | 
| 安装法兰 | CF40 | 
| 工作气压 | 10-5 - 10-2mbar | 
| 最大功率 | 300W | 
| 匹配器 | 自动 | 
| 裂解腔材质 | PBN/石英 | 
| 真空内长度 | 300mm | 
| 工作距离 | 100 – 300 mm | 

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