模块 | 配置 | HV EBE | |
蒸镀腔 | 腔体 | 腔体尺寸 | Max.800mm I.D. |
烘烤温度 | 150℃ | ||
本底真空 | <5×10-8mbar | ||
抽气系统 | 低温泵 | ||
真空测量系统 | 离子规+Pirana规 | ||
样品架 | 样品尺寸 | Max. 8inch | |
加热器 | W/SiC/IR | ||
工作温度 | Max.1000K | ||
最大旋转速度 | 20rpm | ||
安装方向 | 竖直/水平 | ||
Tilt | ±40°（选配） | ||
水冷/液氮冷却 | 选配 | ||
E-beam源 | 坩埚容量 | 2/4/7/15/25 | |
坩埚数量 | 1/4/6 | ||
安装方向 | 立式/卧室 | ||
功率 | 4kw/6kw | ||
部件 | QCM | 标配 | |
射频源 | 选配 | ||
软硬件集成 | GUIDE软件 | 标配 | |
烘烤系统 | 标配 | ||
系统支架 | 标配 | ||
真空照明系统 | 选配 | ||
等离子清洗 | 选配 | ||
CCD相机 | 选配 | ||
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